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CEO 代表社員兼業務執行社員 土井真樹当社は2015年2月に創業いたしました。
創業間もない新しい企業ではありますが、当社のスパッタリング技術は2000年から研究開発がされており、長い年月をかけてノウハウを蓄積してまいりました。当社は、技術に裏付けられた確かな企業だと自負しております。

また、ベンチャー企業の利点である機動性、柔軟性を生かし、業界に新たな技術を提案し、業界の更なる発展を目指し、社会貢献していきたいと考えているベンチャースピリット溢れる企業でもあります。

皆様方のご支援・ご指導をお願いすると共に、我々の今後の活躍に、是非ご期待ください。

CTO 社員兼最高技術責任者 平田豊明
1973年
熊本大学工学部工業化学科卒業
1973年
大阪大学大学院工学研究科
原子力工学専攻博士課程入学
1980年
同大学院前後期課程単位取得完了満期退学
1980年
つくば大学プラズマ研究センター勤務
現在、産業界におきましては、種々の電子デバイス向けに、薄膜は必須の素材となっており、プラズマの電子デバイス作製への研究・応用が、各方面にて盛んに行われております.このプラズマの可能性に早くから着目し、大学院等でプラズマ・核融合を学び、そのプラズマの最たる応用分野として、今の生活に欠くことのできない薄膜を、プラズマスパッタリング製法を用いて作製することにより、社会に貢献していきたいと考えております.

このプラズマによる薄膜作製スパッタプロセスには、多くの製法がありますが、基板への衝撃のない薄膜作製が可能なのは、ナチュラトロンスパッタリング製法以外にはありません。

応用範囲が広く、多くの様々な分野への薄膜の供給が可能です。例えば、以下のようなものがあります.

透明導電膜  電磁波シールド薄膜、タッチパネル、有機ELディスプレイ・照明、薄膜ソーラーシート
TFT(薄膜トランジスタ)用薄膜
回路基板用金属層
光学フィルター
HDD用磁気ヘッド膜
太陽電池のシリコン膜

これらの応用分野に関しては、次の理由が挙げられます.

① 高エネルギー粒子による衝撃がない事により、低温(100℃以下)での成膜が可能です。それ故に、製品へのダメージが非常に少なくなり。歩留まりの飛躍的な向上を図ることが可能となります。
② 高価な有毒ガスを使用しないので、環境対策等のガス管理付帯設備が非常に少なくて済みます。従いまして、装置システムが簡素化され、メンテナンスが容易となります。
③ 基板が低温のままなので、高温では難点のある、樹脂フィルムを用いたRoll-to-Rollによる連続生産が可能となり、生産能力の飛躍的な向上を図ることができます。また、容易な作業管理により、安定した品質が得られます。
④ スパッタ材料の利用効率が高いので、高価なターゲット等の長期間の利用が可能となり、他の製法に比べ材料代を大きく削減でき、太陽電池パネル等のシリコン薄膜の場合、通常の約1/100程度の使用量での生産が可能となります。更には、薄膜太陽電池においては、スパッタプロセスを用いているのは、このナチュラトロンスパッタしかありません。このように、スパッタプロセスを用いる場合は、ナチュラトロンスパッタは、非常に有効なプロセスとなります。

○製品情報
①透明導電(ITO、ZnO、etc.)膜付き樹脂フィルム
②封止フィルム用薄膜(SiO2, Si3N4, SiON, etc.)
③光導波路用クラッド層膜(SiO2, SiGeO, LiNbO, etc.)
④電磁波吸収体膜(Fe-Ne, etc.)

この他にも次の分野への応用が可能です。

反射防止(AR)膜(積層膜)
光学フィルター膜
HDD用磁気ヘッド膜
LSI用磁気メモリー(TMR(トンネル効果磁気抵抗)素子)
太陽電池用発電層膜(シリコン系膜、化合物半導体膜(CIGS))。

○スパッタリング
スパッタリング現象について、簡単に述べます.

スパったリング
図のように、膜材料となるターゲットを高エネルギーの粒子、この場合、プラズマ中のアルゴンイオンが叩くと、ターゲットから原子状の膜材料が、水たまりに小石を投げ込んで水が弾けた時のように飛び出してきます. これを基板である,ガラスやウェハー,フィルム等で受け止めて膜形成が行われます。

このようなスパッタリング現象を成膜に利用するスパッタプロセスの中でも、ナチュラトロンは種々の成膜法と比べても優位性があり、更にかなりいろいろな多くの分野への応用も考えられております。

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